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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備>E200P Plus Exploiter系列原子層沉積設備

E200P Plus Exploiter系列原子層沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市原速科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 E200P Plus
  • 產地 深圳市寶安區(qū)新安街道1號樓511-513
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2019/8/22 9:28:11
  • 訪問次數 610

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原速科技(Superald,LLC)是一家專注于開發(fā)新一代原子層沉積技術的高科技企業(yè),為半導體、柔性顯示、光學鍍膜、太陽能電池及鋰電池等領域的薄膜研發(fā)和生產提供優(yōu)質的技術服務和一體化解決方案,致力打造*的薄膜材料制備平臺。

原子層沉積設備/原子層沉積系統(tǒng)

產地類別 國產 價格區(qū)間 100萬-200萬
應用領域 生物產業(yè),能源,電子/電池

1、Exploiter-E200P Plus產品特色

(1)傳輸管路的優(yōu)化設計,有效地避免管路堵塞及交叉污染問題

(2)工業(yè)化級別標準集成:PLC+工控機+觸摸屏

(3)軟件操作界面友好,可真正實現“一鍵沉積”

(4)完善全面的安全互鎖方案

(5)實時監(jiān)測鍍膜工藝

2、Exploiter-E200P Plus可制備的材料種類

(1)氧化物:Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3

(2)金屬材料及合金:Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

(3)二元/多元材料:AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等

(4)納米層壓材料:(Al2O3/ZrO2)n

3、Exploiter-E200P Plus技術指標

(1)本底真空:<5.0×10-3torr,高性能機械泵(可定制其它款型)

(2)樣品腔室:φ200mm+粉末顆粒包裹腔(可定制其它款型)

(3)前驅體源:6

(4)氧化/還原反應物:3路

(5)沉積溫度:室溫-500℃(可定制其他溫度)

(6)前驅體管道溫度:室溫-120℃(可定制其他溫度)

(7)源瓶加熱溫度:室溫-120℃(可定制其他溫度)



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