Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版
- 公司名稱 復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司
- 品牌 Phenom/飛納電鏡
- 型號(hào) Phenom XL G2
- 產(chǎn)地 荷蘭
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/12/29 14:39:11
- 訪問(wèn)次數(shù) 3920
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| 背散射電子圖像分辨率 | 8nm | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 二次電子圖象分辨率 | 8nmnm | 放大倍數(shù) | 200,000Xx |
| 加速電壓 | 4.8kV-20.5kVkV | 價(jià)格區(qū)間 | 100萬(wàn)-150萬(wàn) |
| 儀器種類 | 六硼化鈰 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版升級(jí)為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì) 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。
Phenom XL G2 標(biāo)配四分割背散射電子探頭（BSD），提供高品質(zhì)圖像及成分襯度信息。Phenom XL G2 可選配另外兩
種探測(cè)器。一種是*集成的能譜儀（即 EDS），可進(jìn)行元素分析。另外一種是二次電子探測(cè)器（SED），可觀察樣品表面微觀細(xì)節(jié)。此外，還可以選配 ProSuite 應(yīng)用拓展平臺(tái)。配備 ProSuite 軟件后，可以使用顆粒統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)、孔徑統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)、纖維統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)、3D 粗糙度重建系統(tǒng)等軟件進(jìn)一步分析樣品。
臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL G2 參數(shù)
光學(xué)顯微鏡：放大 3-19 倍
電子顯微鏡：200,000 倍
探測(cè)器：高靈敏度四分割背散射電子探測(cè)器
燈絲材料：1,500 小時(shí) CeB6 燈絲
分辨率：優(yōu)于 8 nm
放置環(huán)境：采用專業(yè)防震設(shè)計(jì)，可擺放于普通實(shí)驗(yàn)室或辦公室、廠房
加速電壓：4.8kV-20.5kV 連續(xù)可調(diào)
抽真空時(shí)間：小于 40 秒
樣品尺寸：zui大 100 mm x 100 mm (可容納 36 個(gè)直徑 12 mm 的樣品臺(tái))
復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom Scientific)，負(fù)責(zé)飛納臺(tái)式掃描電鏡在中國(guó)市場(chǎng)的推廣和銷售，提供專業(yè)的和測(cè)試服務(wù)，飛納中國(guó)擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，提供優(yōu)化的解決方案；飛納中國(guó)提出飛納學(xué)校 （Phenom University）的概念，為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州設(shè)立了測(cè)試中心和售后服務(wù)中心，目前飛納在中國(guó)已經(jīng)擁有超過(guò) 1000 名用戶。
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