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UV-Writer 無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)

參考價(jià) 800000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) UV-Writer
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 16:39:21
  • 訪問(wèn)次數(shù) 3006

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開(kāi)發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄海?jiàn)證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)

直接激光直寫光刻

直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。


無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng),其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計(jì)。

一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計(jì)。

除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。

在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。

使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。

接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫在表面上。


技術(shù)指標(biāo):

XY工作臺(tái)

典型寫入速度:100-120 mm/s

最大面積:100x92 mm^2

最小面積:沒(méi)有最小面積

單向定位臺(tái)階:X=0.16µm,Y=1.00µm

慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))

實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見(jiàn)下圖)

軟件

支持的格式:PNGGDSII

在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框

-可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)

-通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償

-全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定

光學(xué)

-激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm

-激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡

-二次獨(dú)立黃色照明

-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變

精度:

-精細(xì):0.8µm

-介質(zhì):2µm

-粗粒:5µm

大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):

-精細(xì):1.7 mm^2/min

-中等:4.25 mm^2/min

-粗糙度:10.6 mm^2/min

在雙向?qū)懭肽J较滤俣燃颖丁?/span>






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