Nanofilm_EP4 橢偏儀
- 公司名稱 深圳市錫成科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Nanofilm_EP4
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/4/18 7:42:22
- 訪問次數(shù) 516
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臺階儀,光學(xué)輪廓儀,電化學(xué)工作站,納米壓痕儀,力電聯(lián)測材料試驗機(jī),介電溫譜測量系統(tǒng),電阻測試儀,原子力顯微鏡,光學(xué)顯微鏡
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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橢偏儀
超薄膜的實時可視化分析測試,實時觀察樣品微觀尺度上的結(jié)構(gòu)??梢詼y量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數(shù)等參數(shù)。也可以對薄膜進(jìn)行區(qū)域化(選區(qū))分析,獲得所選區(qū)域的成像分析圖。
橢偏儀產(chǎn)品特點
a 自動消光型橢偏分析技術(shù)和傳統(tǒng)的顯微鏡技術(shù)結(jié)合,可視化實時圖像橢偏分析,橫向(X/Y方向)分辨率優(yōu)于1μm。
a 實時橢偏對比度圖像,實時視頻圖像分析。樣品的所有微結(jié)構(gòu)、缺陷、污染和動態(tài)變化過程都將一覽無余。
a 全畫幅聚焦技術(shù)解決了斜角入射導(dǎo)致的全畫幅聚焦問題,適用于動態(tài)原位分析測試,如自組裝單分子層的生長和移動、蛋白質(zhì)相互作用和水面單分子層的漂移等。
a 光斑切割技術(shù),真正實現(xiàn)超薄透明基底上薄膜的無背底反射橢偏測試。
基礎(chǔ)參數(shù) | |
樣品對準(zhǔn) | 探測Z方向的位置和傾斜,傾轉(zhuǎn)軸探測精度:0.001°,Z向精度:1μm |
儀器對準(zhǔn) | 光學(xué)系統(tǒng)角度傾轉(zhuǎn)調(diào)整,獨立于樣品位置,傾轉(zhuǎn)軸探測精度:0.001° |
Z軸升降系統(tǒng) | 行程范圍:>100mm,可重復(fù)性:lμm |
光源 | 低氙弧燈激光光源,噪聲低至0.1%,長壽命10000小時; 可選單波長激光光源或200-2000nm連續(xù)波長光源; 提供250-1700nm光柵單色器,中段波長精度<1nm,帶寬5/6/12nm; 可選光斑切割照明模塊,實現(xiàn)透明基底薄膜的無背底反射干擾測量; |
光學(xué)成像系統(tǒng) | 聚焦掃描系統(tǒng),在變角度測量時(<80°)實現(xiàn)實時圖像,兼容所有物鏡,橫向分辨率<1μm; 全畫幅聚焦圖像/實時視頻,橫向分辨率2μm,工作入射角:52°~57°; |
探測器 | 單色千兆網(wǎng)(GigE)CCD相機(jī),波長:360nm-1000nm,1392×1040 px,12位,40幀/秒; 可選近紅外(NIR)探測相機(jī)和紫外線(UV)探測相機(jī); 可選多相機(jī)匹配及切換系統(tǒng); |
物鏡 | 2×-50×物鏡; UV/IR物鏡; |
自動轉(zhuǎn)角儀 | 入射角范圍:38°-90°,分辨率:0.001°,角精度:0.01°,轉(zhuǎn)動速度:-5°/秒 |
Z軸自動升降系統(tǒng) | 行程:12cm,可重復(fù)性:1μm,分辨率0.5μm |
拓展附件 | 表面等離子共振(SPR)單元,固/液界面分析單元,光導(dǎo)液/液界面分析單元,微流控分析單元,溫度控制單元,電化學(xué)分析單元等 |
聯(lián)用技術(shù) | AFM、石英晶體微天平、反射光譜儀、拉曼光譜儀、白光干涉儀等 |
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