顯影機DEVELOPER

晶圓顯影機的用途包括：

1. 光刻工藝：在半導體制造中，光刻工藝是一種關鍵的工藝步驟，用于在晶圓表面形成微細的圖案，以定義電路和器件的結構。晶圓顯影機用于對光刻膠進行顯影處理，形成所需的圖案。

2. 芯片制造：晶圓顯影機也用于芯片制造過程中的顯影步驟，幫助形成芯片上的電路圖案和結構。

3. 微納加工：除了半導體制造，晶圓顯影機還可以應用于微納加工領域，用于制造微米級甚至納米級的器件和結構。

顯影機在半導體制造和微納加工領域起著至關重要的作用，幫助實現微電子元件的精密制造和微米級結構的加工。

1. UNIXX D20 高級版

（直徑200mm）帶有可移動飛濺環(huán)的獨立系統(tǒng)，用于手動裝載/卸載單個基材。

2.UNIXX D30標準

（?300毫米）單機系統(tǒng)為用戶提供

在科學方面，以及具有高效、安全和清潔系統(tǒng)的研究。