1. 產(chǎn)品概述

HORIC D200系列 擴散/氧化系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大。

2. 設備用途/原理

HORIC D200系列 擴散/氧化系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大。可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺。安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案。優(yōu)異的工藝技術支持。

3. 設備特點

晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料  硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝  磷擴散、硼擴散、氧化、退火、合金。適用域  科研、化合物半導體。擴散爐是半導體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設備之一，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業(yè)的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。