Veeco 離子束蝕刻的優(yōu)勢(shì)

離子束蝕刻是一種成熟的技術(shù)，可用于在大批量生產(chǎn)環(huán)境中制造先進(jìn)的薄膜器件。然而，研發(fā)和中試線生產(chǎn)環(huán)境都在不斷創(chuàng)新下一代MEMS、磁傳感器和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備，這些設(shè)備也依賴于具有行業(yè)最佳性能規(guī)格的高性能蝕刻系統(tǒng)。Veeco 目前在全球安裝了 300 多個(gè)離子束蝕刻系統(tǒng)，支持薄膜器件應(yīng)用。

新型 Lancer IBE 系統(tǒng)

新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統(tǒng)專為開發(fā)和生產(chǎn)智能手機(jī)、自動(dòng)駕駛汽車和其他可實(shí)現(xiàn)連接性、功能性和移動(dòng)性的“物聯(lián)網(wǎng)”設(shè)備中的下一代電子設(shè)備而設(shè)計(jì)。

Lancer系統(tǒng)提供了在研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境中可以達(dá)到的設(shè)備質(zhì)量，包括：

• 的系統(tǒng)性能和功能

• 與前幾代 IBE 相比，單模塊配置減少了占用空間

• 經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的技術(shù)，目前擁有龐大的安裝基礎(chǔ)

• 擁有專用流程和技術(shù)專業(yè)知識(shí)的大型應(yīng)用數(shù)據(jù)庫

• Veeco 銷售和服務(wù)支持基礎(chǔ)設(shè)施確保客戶滿意度