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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)> C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備

參考價 99
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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      北京長恒榮創(chuàng)科技有限公司是一家專業(yè)的光學(xué)顯微鏡提供商,是一家以生產(chǎn)、研發(fā)、銷售高品質(zhì)顯微鏡的科技公司,公司經(jīng)營的主要產(chǎn)品有:倒置顯微鏡,倒置金相顯微鏡,正置金相顯微鏡,偏光顯微鏡,熒光顯微鏡,數(shù)碼顯微鏡產(chǎn)品及各種分析處理軟件。我公司產(chǎn)品廣泛用于機(jī)械、電子、冶金、化工、航空、天文、輕工、農(nóng)業(yè)等各行業(yè)和科研、教育、國防等部門, 企業(yè)產(chǎn)品遍及國內(nèi)外,深受國內(nèi)外廠家及客商的歡迎。

 

      公司面向現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)*的應(yīng)用領(lǐng)域,秉承“以客戶需求為基本出發(fā)點(diǎn)”的宗旨,堅持“制定科學(xué)設(shè)計方案,提供*產(chǎn)品,構(gòu)建完善售后服務(wù)”的原則,竭誠歡迎光學(xué)儀器領(lǐng)域中的有相當(dāng)專長的人士和機(jī)構(gòu)進(jìn)行各種形式的合作。

 

奧林巴斯顯微鏡、徠卡顯微鏡、

光源 高壓水銀直流汞燈 照明范圍 ≤ф100mm
≤ф100mm ф100mm內(nèi)±3% 對準(zhǔn)精度 1μm
套刻精度 1μm 主機(jī)電源 220V±10%
重量 ≤100Kg

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要用途:


 本機(jī)針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。


 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。



C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要性能指標(biāo):


1. 多種版夾盤


 C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。


C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。



2. 真空吸附基片的“承片臺”


 C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個,分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


 C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”五個,分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。



3. 照明


 光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明范圍:≤ф100mm


不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%


可使用的波長:g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。


成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在10mw/cm2)。

曝光分辨率:1μm


對準(zhǔn)精度: 1μm


 套刻精度: 1μm



4. 采用進(jìn)口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動快門,動作準(zhǔn)確可靠。



5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):


硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。


軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。


微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。



6. 分辯率估計


如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上



7. 對準(zhǔn)


觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。


a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。


b.CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);


c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;


d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。


對準(zhǔn)臺:(采用片動,版不動方式)


X、Y調(diào)整:±5mm。


θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°


對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。


整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動。


“接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調(diào)到≤±0.5μm。



8. 設(shè)備所需能源:


主機(jī)電源: 220V±10%   50HZ


潔凈空氣≥0.4MPα。


真空:-0.07~-0.08MPα。



9. 尺寸和重量:


尺寸:機(jī)體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。


重量:≤100Kg。


機(jī)體放在專用工作臺上。


工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。


高度可調(diào)范圍0~30mm。


重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。


總重量≤200Kg



10. C-25X200型光刻機(jī)的組成


 主機(jī)


主機(jī)(含機(jī)體和工作臺)


對準(zhǔn)用單筒顯微鏡


蠅眼曝光頭


 附件


主機(jī)附件


3"□型掩版夾盤


4"□型掩版夾盤(出廠時安裝到機(jī)器上)


用于2"基片的真空夾持承片臺。


用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時安裝到機(jī)器上)


(若需特殊的基片承片臺,訂貨時用戶提出)


顯微鏡組成


單筒顯微鏡二個


兩個CCD


視頻連接線。


計算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。





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