PVD-1000B系列 生產(chǎn)型磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機
- 公司名稱 鵬城半導體技術（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 PVD-1000B系列
- 產(chǎn)地 深圳
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/1/8 20:14:16
- 訪問次數(shù) 81
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鵬城半導體技術（深圳）有限公司(簡稱：鵬城半導體），由哈爾濱工業(yè)大學（深圳）與有多年實踐經(jīng)驗的工程師團隊共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術前沿與市場前沿的交叉點，尋求創(chuàng)新yin/ling與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點和國產(chǎn)化難題，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
公司核心業(yè)務是微納技術與gao duan精密制造，具體應用領域包括半導體材料、半導體工藝和半導體裝備的研發(fā)設計和生產(chǎn)制造。
公司人才團隊知識結構完整，有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊；還有來自工業(yè)界的高級裝備設計師團隊，他們具有20多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜制備成套裝備設計、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗。
公司依托于哈爾濱工業(yè)大學（深圳），具備*的半導體研發(fā)設備平臺和檢測設備平臺，可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市，具備半導體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導體材料與器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。
半導體材料,工藝和裝備的研發(fā)設計,生產(chǎn)制造
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機（PVD-1000B系列）該設備采用磁控濺射、離子輔助、反應濺射的工藝方法，在工件表面制備各種薄膜材料。該設備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設備。
可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。
設備結構及性能參數(shù)
真空室為圓柱形、上開蓋、前開門結構；使用材料均為奧氏體不銹鋼304/321，表面電化學拋光處理，無微觀毛刺，不會藏污納垢。
磁控濺射靶為矩形，沿真空室壁的圓周排列，可調(diào)整靶面與工件的距離。
樣品架為圓筒形，樣品裝載數(shù)量大；旋轉運動為齒輪驅(qū)動式，動力直連輸入，經(jīng)齒輪驅(qū)動樣品臺轉盤旋轉，運行平穩(wěn)，無抖動；密封可靠，故障率低。
加熱系統(tǒng)采用紅外加熱器，對真空環(huán)境無污染，加熱均勻；采用具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。
電氣控制及操作系統(tǒng)工作穩(wěn)定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。
系統(tǒng)安全保護設置齊全，設備啟動后可實行無人運行。
設備重點性能參數(shù)
極限真空度 | 8X10-5Pa |
| 工作背景真空度 | 8X10-4Pa |
| 工作背景真空到達時間 | ＜40min（空氣濕度低于45％；開門時間＜30min條件下從大氣抽到工作真空度時間) |
| 樣品加熱溫度 | 室溫~300℃ |
| 樣品架公轉速度 | 3~10r/min連續(xù)可調(diào) |
| 片內(nèi)膜層均勻性 | ＜5% |
| 片間膜層均勻性 | ＜5% |
| 磁控靶數(shù)量 | 3靶（可根據(jù)用戶工藝擴展靶位） |
| 真空清洗離子靶 | 1靶 |
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