在微電子與集成電路制造領(lǐng)域，精度與效率是永恒的追求。托托科技自主研發(fā)無(wú)掩模光刻機(jī)，以其革命性的高階灰度光刻能力，為行業(yè)帶來(lái)了變革。

一、重塑光刻工藝

托托科技自主研發(fā)無(wú)掩模光刻機(jī)融合了激光直寫技術(shù)與DMD無(wú)掩模技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了在材料表面直接進(jìn)行高精度加工。這一技術(shù)突破，讓我們告別了傳統(tǒng)掩模版的束縛，邁入了高效、靈活的光刻新時(shí)代。

二、核心功能，彰顯性能

靈活設(shè)計(jì)：無(wú)需掩模版，省去制版時(shí)間和成本，快速驗(yàn)證設(shè)計(jì)理念。

高精度加工：400 nm的加工精度，滿足大多數(shù)高精度加工需求。

高效生產(chǎn)：1200 mm²/min的加工速度，2 m²的加工幅面，大幅提升生產(chǎn)效率。

灰度光刻：4096階的灰度光刻能力，構(gòu)建復(fù)雜細(xì)膩的微觀結(jié)構(gòu)。

三、特色功能，提升用戶體驗(yàn)

直接繪圖：快速實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)圖案的繪制，提高研發(fā)效率。

精準(zhǔn)套刻：綠光指引，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)，確保光刻質(zhì)量。

陣列光刻：快速確認(rèn)工藝參數(shù)，節(jié)省用戶時(shí)間。

主動(dòng)對(duì)焦：實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)，確保光刻聚焦清晰。

四、廣泛應(yīng)用，覆蓋多個(gè)領(lǐng)域

托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造等領(lǐng)域，為電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等行業(yè)提供高效、靈活的解決方案。

五、推動(dòng)行業(yè)發(fā)展，共創(chuàng)美好未來(lái)

托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)的問世，不僅提升了微電子與集成電路制造領(lǐng)域的精度和效率，還為行業(yè)帶來(lái)了靈活性。我們堅(jiān)信，這款產(chǎn)品將助力我國(guó)微電子與集成電路制造業(yè)邁向更高水平，共創(chuàng)美好未來(lái)。

托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)——一款創(chuàng)新產(chǎn)品，為您帶來(lái)高效、精準(zhǔn)、靈活的制造體驗(yàn)！