ULVAC愛發(fā)科作為真空技術企業(yè)，其核心產(chǎn)品覆蓋真空設備及配套系統(tǒng)，以下是主要產(chǎn)品線及其技術特點：

一、真空泵類產(chǎn)品

1. ?油旋片真空泵 PVD-360?

• ?技術特性?：采用雙級設計，極限真空度達2×10?2 Pa，配備智能調(diào)速電機節(jié)能30%；模塊化結(jié)構(gòu)縮短40%維護時間，轉(zhuǎn)子表面DLC涂層延長使用壽命至40,000小時46。

• ?應用領域?：適用于制冷行業(yè)（空調(diào)抽真空）、食品真空包裝、電子元器件生產(chǎn)及化工真空浸漬4。

2. ?高真空低溫泵 CRYO-U6H?

• ?核心性能?：雙段式GM制冷技術實現(xiàn)1×10?7 Pa極限真空，氫氣排氣速度500 L/s，支持多泵聯(lián)動（單壓縮機驅(qū)動4臺泵）7。

• ?優(yōu)勢?：氬氣處理容量提升2倍，再生周期優(yōu)化，適用于半導體濺射和光學鍍膜等潔凈工藝7。

3. ?油回轉(zhuǎn)真空泵配件?

• ?油霧過濾器 OMT-200A?：自動回收油煙至泵內(nèi)，適配GLD系列泵型，降低油消耗和維護頻率2。

二、半導體制造設備

• ?uGmni-200E刻蝕設備?：模塊化平臺支持多工藝腔體切換，通用部件設計減少備件需求，提升電子產(chǎn)品制造效率5。

• ?GaN射頻器件解決方案?：涵蓋濺射、刻蝕、蒸鍍等全流程，核心技術包括低損傷刻蝕及大規(guī)模生產(chǎn)支持能力5。

• ?一次性蒸鍍卷繞設備?：實現(xiàn)雙面1μm鍍膜的高速量產(chǎn)，方阻降低顯著，適用于鋰電池制造5。

三、成膜與測量設備

1. ?成膜設備?

• 成膜電源與橢偏儀：支撐薄膜沉積工藝中的電源供應與膜層分析1。

2. ?真空測量儀器?

• ?M-11測定子?：電離真空計配件，測量范圍1.30×10??~2.3×10?2 Pa，快速響應高真空環(huán)境變化，適配GI系列真空計3。

四、其他核心組件

• ?真空機械手?：用于晶圓真空搬運，兼容復雜生產(chǎn)線布局1。

• ?真空閥與法蘭?：標準化部件支持真空系統(tǒng)快速搭建，覆蓋醫(yī)療、生物技術等領域1。

ULVAC產(chǎn)品以真空技術為核心，通過智能化、模塊化設計適配半導體、新能源、科研等多領域需求，持續(xù)推動高精度與節(jié)能技術創(chuàng)新15。