手機版
化工儀器網手機版
化工儀器網小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于在真空環(huán)境中通過物理氣相沉積技術制備薄膜的設備。它主要用于在各種基材上沉積一層或多層薄膜，廣泛應用于電子、光學、材料科學等領域。
蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于在基底上制備均勻材料薄膜的設備，通過物理方法產生薄膜材料。其工作原理主要是利用加熱源(如電子束或電阻加熱)將材料加熱至高溫，使其蒸發(fā)并沉積在基底表面上，形成所需的薄膜。
工作原理
蒸發(fā)鍍膜儀的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術。具體過程包括以下幾個步驟：
真空環(huán)境：使用真空泵將蒸發(fā)室內的氣體抽出，創(chuàng)造一個高真空環(huán)境，以避免材料在蒸發(fā)過程中與氣體反應。
蒸發(fā)源：將待鍍材料放置在蒸發(fā)源(如鎢舟或電子束加熱器)上，通過電阻加熱、電子束加熱等方式使材料蒸發(fā)。
沉積：蒸發(fā)的材料在基片上沉積，形成所需的薄膜。
特點：
電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)高熔點材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發(fā)速率。
被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內，真空蒸發(fā)鍍膜機可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜。
電子束蒸發(fā)粒子動能大，有利于獲得致密、結合力好的膜層。
綜上所述，蒸發(fā)鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備，在多個領域都有廣泛的應用。在選購和維護時，需要充分考慮實際需求和預算。
免責聲明
- 凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內與本網聯(lián)系，否則視為放棄相關權利。
采購中心