聯合光科復雜光譜分光鏡鍍膜要點分析

隨著光學技術的發(fā)展和市場需求的提高，復雜光譜鏡片的鍍膜技術在諸多場景開始廣泛應用，下面我們一起來看一下復雜光譜分光鏡鍍膜要點分析。

復雜光譜鏡片主要包括濾光片，分光鏡及合束鏡等，其效率問題主要來自下面兩個方面：

一、45°入射條件下消偏振的處理

對于任何光學薄膜（單層膜或者多層膜），決定其光譜特性的是其材料的有效折射率：
                                                     ηs=n*cosθ      ηp=n/cosθ
       上述 ηs 和 ηp 是S、P兩種不同偏振態(tài)下的等效折射率，θ是光的入射角，n是薄膜材料的折射率。從上述公式可以看出，僅在正入射情況下，s、p兩種偏振態(tài)的有效折射率是相等的。在有角度入射的條件下，s、p兩種偏振態(tài)的有效折射率是不同的。這就是帶角度入射情況下，薄膜偏振效應的理論根源。這種偏振效應也是本項目指標難度的根本所在。為了消除偏振效應，在基礎膜系的基礎上需要大量的膜層去匹配。這些匹配層膜厚不規(guī)則，對偏振效應的影響很敏感，因此膜厚誤差需要控制的相對準確。

二、反射區(qū)到透射區(qū)過渡的陡度

陡度主要帶來如下三個難題：

  A. 陡度越大，膜層數越多，工藝穩(wěn)定性要求越高，系統(tǒng)誤差要求越小

  B. 陡度越大，波長定位精度要求越高，制造時，報廢和返工的可能性就越大，實驗的次數就要增加。

  C. 陡度越大，對均勻性要求就越高。

強光光學元件的熱變形問題，主要來自于元件的吸收，吸收源主要來自于如下三個方面：

  1.  鏡片元件基底吸收。為了規(guī)避這一點，可采用低吸收的康寧石英或賀利氏石英作為基底。

  2.  膜層吸收。為降低膜層吸收，可采用極低吸收的電子槍蒸發(fā)-高能離子束輔助工藝，采用高純度鍍膜材料進行鍍制。

  3.  服役環(huán)境污染。該污染主要來自于服役時元件清潔不良，在激光作用下，附著雜質與激光作用產生的光致吸收現象。

以上就是復雜光譜分光鏡鍍膜的一些要點，想了解更多，歡迎與我們取得聯系。聯合光科技是中國標準光學元件現貨供應商，致力于為用戶提供各類光學元件，同時也提供光學產品的定制服務。您在光學元件方面的任何需求，我們都將竭誠為您服務，期待您的聯系。