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ACT-220AII 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)——高性能薄膜制備的實(shí)驗(yàn)室利器
在現(xiàn)代材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、光學(xué)技術(shù)以及生物技術(shù)等領(lǐng)域，薄膜制備是關(guān)鍵的工藝步驟之一。旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)因其操作簡(jiǎn)便、成本低、成膜均勻等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中。日本ACTIVE公司推出的 ACT-220AII 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，憑借其高性能、高精度和多功能性，成為薄膜制備領(lǐng)域的理想選擇。
1. ACT-220AII 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)概述
ACT-220AII 是一款桌面型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，專為小型實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)，適用于半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、光學(xué)透鏡、納米技術(shù)、生物技術(shù)以及液晶顯示器等領(lǐng)域的薄膜制備。該設(shè)備以其緊湊的設(shè)計(jì)、高性價(jià)比和廣泛的適用性而受到全球科研人員和工程師的青睞。
2. 技術(shù)特點(diǎn)
2.1 高精度旋轉(zhuǎn)控制
ACT-220AII 提供 0-7000 rpm 的旋轉(zhuǎn)速度范圍，精度高達(dá) ±1 rpm。這種高精度的旋轉(zhuǎn)控制能夠確保薄膜的均勻性，滿足不同材料和工藝的需求。
2.2 多段式程序控制
設(shè)備支持 10步×100模式 的程序記憶，用戶可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求設(shè)置復(fù)雜的多段涂布程序。此外，還可以切換為 50步×20模式，進(jìn)一步優(yōu)化涂布過(guò)程。
2.3 安全設(shè)計(jì)
ACT-220AII 配備帶聯(lián)鎖傳感器的安全蓋，能夠在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中滴液，同時(shí)確保操作人員的安全。這種設(shè)計(jì)不僅提高了操作的便利性，還有效防止了溶劑揮發(fā)和樣品污染。
2.4 適用基板尺寸
該設(shè)備適用于 φ5mm至φ100mm 的基板，最大支持 φ4英寸 或 □70mm 的樣品。這種廣泛的適用性使其能夠滿足多種實(shí)驗(yàn)需求。
2.5 便捷連接
ACT-220AII 本體和真空泵側(cè)配備一鍵式連接器，便于管路連接。此外，設(shè)備還提供定制選項(xiàng)，可根據(jù)用戶需求調(diào)整配置。
3. 應(yīng)用領(lǐng)域
3.1 半導(dǎo)體制造
在半導(dǎo)體制造中，ACT-220AII 用于光刻膠的涂布，能夠確保薄膜的均勻性和高精度，從而提高光刻工藝的質(zhì)量。
3.2 太陽(yáng)能電池
在太陽(yáng)能電池的制造過(guò)程中，旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)用于沉積薄膜材料，如透明導(dǎo)電氧化物（TCO）和鈣鈦礦。ACT-220AII 的高精度控制能夠確保薄膜的均勻性和光電性能。
3.3 光學(xué)透鏡
在光學(xué)透鏡的制造中，ACT-220AII 用于抗反射膜和增透膜的涂布。其高精度的旋轉(zhuǎn)控制能夠確保薄膜的均勻性，從而提高光學(xué)性能。
3.4 納米技術(shù)與生物技術(shù)
在納米技術(shù)和生物技術(shù)領(lǐng)域，ACT-220AII 用于制備納米材料和生物傳感器的薄膜。其多段式程序控制能夠滿足復(fù)雜的涂層需求，確保薄膜的均勻性和功能性。
3.5 液晶顯示器
在液晶顯示器的制造中，ACT-220AII 用于顯示面板的薄膜涂層。其高精度和多功能性能夠滿足不同工藝的需求，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
4. 技術(shù)規(guī)格
- 旋轉(zhuǎn)速度范圍：0-7000 rpm，精度±1 rpm。
- 適用基板尺寸：φ5mm至φ100mm，最大支持φ4英寸或□70mm。
- 電源：1Φ 100V-10A（AC伺服電機(jī)200W），50/60Hz。
- 真空泵：需要外接真空泵，排量12L/min以上。
- 外形尺寸：250×330×272mm（安全蓋關(guān)閉時(shí)）。
- 重量：18kg。
- 材料：不銹鋼電解拋光（可選特氟龍涂層）。
5. 使用案例
5.1 半導(dǎo)體光刻膠涂布
在某半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室中，研究人員使用 ACT-220AII 對(duì)硅片進(jìn)行光刻膠涂布。通過(guò)設(shè)置多段式程序，設(shè)備能夠在不同速度下進(jìn)行涂布，確保光刻膠的均勻分布。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，使用 ACT-220AII 制備的光刻膠薄膜具有優(yōu)異的均勻性和一致性，顯著提高了光刻工藝的成功率。
5.2 透明導(dǎo)電氧化物薄膜沉積
在太陽(yáng)能電池研究中，研究人員利用 ACT-220AII 沉積透明導(dǎo)電氧化物（TCO）薄膜。設(shè)備的高精度旋轉(zhuǎn)控制和多段式程序設(shè)計(jì)能夠確保薄膜的均勻性和導(dǎo)電性。實(shí)驗(yàn)表明，使用 ACT-220AII 制備的 TCO 薄膜具有良好的光電性能，顯著提高了太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。
6. 優(yōu)勢(shì)總結(jié)
ACT-220AII 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)憑借其高精度、多段式程序控制、安全設(shè)計(jì)和廣泛的適用性，成為薄膜制備領(lǐng)域的理想選擇。無(wú)論是在半導(dǎo)體制造、太陽(yáng)能電池、光學(xué)透鏡、納米技術(shù)還是生物技術(shù)領(lǐng)域，ACT-220AII 都能夠提供穩(wěn)定、高效和可靠的涂布解決方案。
7. 結(jié)論
ACT-220AII 旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)以其高性能、高精度和多功能性，成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中薄膜制備的理想選擇。其緊湊的設(shè)計(jì)、安全的操作和廣泛的適用性使其能夠滿足多種實(shí)驗(yàn)需求，顯著提高薄膜制備的效率和質(zhì)量。無(wú)論是在科研還是生產(chǎn)中，ACT-220AII 都能夠?yàn)橛脩籼峁┛煽康慕鉀Q方案，助力薄膜技術(shù)的發(fā)展。
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