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全自動離子濺射儀結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)點

來源：北京格微儀器有限公司 2025年05月19日 06:41

　　全自動離子濺射儀是一種用于材料表面鍍膜的高科技設(shè)備，廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其結(jié)構(gòu)設(shè)計具有以下顯著優(yōu)點：

　　1.高效自動化

　　全流程自動化：從樣品加載、抽真空、離子轟擊到鍍膜完成，全程由程序控制，無需人工干預(yù)，減少操作誤差。

　　快速鍍膜：采用高能離子束直接濺射靶材，成膜速度快，適合批量處理。

　　多工位設(shè)計：部分型號支持多個樣品同時鍍膜，提升實驗效率。

　　2.高精度與均勻性

　　均勻濺射：通過旋轉(zhuǎn)樣品臺或掃描離子束，確保鍍膜厚度均勻，適用于復(fù)雜形狀樣品。

　　精確控制：

　　離子能量：可調(diào)節(jié)加速電壓，控制鍍膜致密度。

　　鍍膜厚度：通過時間或電流反饋實現(xiàn)納米級厚度控制。

　　靶材利用率：磁控濺射技術(shù)提高靶材利用率，減少材料浪費。

　　3.全自動離子濺射儀多功能適應(yīng)性

　　多靶材兼容：支持金屬、氧化物、合金等靶材，滿足不同實驗需求。

　　多模式鍍膜：

　　直流（DC）濺射：適合導(dǎo)電靶材（如金屬）。

　　射頻（RF）濺射：用于絕緣靶材（如陶瓷、玻璃）。

　　反應(yīng)濺射：引入反應(yīng)氣體制備化合物薄膜。

　　傾斜/旋轉(zhuǎn)樣品臺：可調(diào)節(jié)角度以實現(xiàn)斜面或側(cè)面鍍膜，適應(yīng)立體樣品。

　　4.緊湊與模塊化設(shè)計

　　集成化結(jié)構(gòu)：真空腔、電源、控制系統(tǒng)一體化設(shè)計，占地小，便于實驗室布局。

　　模塊化組件：

　　可更換靶槍：快速更換不同靶材，節(jié)省維護(hù)時間。

　　可選配件：如加熱臺、冷卻系統(tǒng)、射頻匹配器等，擴展功能靈活。

　　5.安全與可靠性

　　真空安全保障：

　　自動真空泄氣閥，防止誤操作導(dǎo)致腔體過壓。

　　真空度實時監(jiān)測，低真空報警功能。

　　防護(hù)設(shè)計：

　　腔體配備防輻射屏蔽，減少X射線暴露。

　　緊急停機按鈕，切斷高壓和真空系統(tǒng)。

　　長壽命部件：

　　離子源壽命長達(dá)數(shù)千小時，降低維護(hù)頻率。

　　真空系統(tǒng)采用干泵或分子泵組，免油污染，維護(hù)周期長。

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