光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計(jì)好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫(xiě)式光刻機(jī)，其中直寫(xiě)式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩模版細(xì)分為有掩模和無(wú)掩模兩種。無(wú)掩模光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩模版的光刻機(jī)，它通過(guò)直接對(duì)晶圓進(jìn)行曝光，實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實(shí)現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無(wú)掩模光刻機(jī)不需要掩模版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn)，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。

科研版無(wú)掩模光刻機(jī)具有高靈活性、高精度、無(wú)掩模的優(yōu)勢(shì)，非常適用于科學(xué)研究。

ACA系列是科研版無(wú)掩模光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩模光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究的選擇。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡(jiǎn)單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列無(wú)掩模光刻機(jī)為科研工作提供了強(qiáng)大的支持，助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

ACA無(wú)掩模光刻機(jī)亮點(diǎn)：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無(wú)掩模光刻機(jī)

ACA Pro無(wú)掩模光刻機(jī)亮點(diǎn)：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無(wú)掩模光刻機(jī)

ACA Master無(wú)掩模光刻機(jī)亮點(diǎn)：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進(jìn)光刻 可切換

無(wú)掩模光刻機(jī)