光刻機(jī)，亦稱為掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，是半導(dǎo)體芯片制造中的關(guān)鍵設(shè)備，主要負(fù)責(zé)將集成電路的設(shè)計圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上，以生產(chǎn)出微小、精確、高效的集成電路。在光刻工藝中，光刻機(jī)的性能直接影響到最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。

光刻機(jī)的分類主要基于其曝光方式，可分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)。直寫式光刻機(jī)根據(jù)是否使用掩模版，又分為有掩模和無掩模兩種。無掩模光刻機(jī)，作為一種創(chuàng)新的曝光技術(shù)，它不依賴于傳統(tǒng)的掩模版，而是通過直接對晶圓進(jìn)行曝光來實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，這種技術(shù)不僅提高了生產(chǎn)速度，降低了成本，而且還增加了光刻工藝的靈活性。

高靈活性 科研版無掩模光刻機(jī)——ACA系列

ACA系列無掩模光刻機(jī)是專為科學(xué)研究而設(shè)計的，它具有以下優(yōu)勢：

高靈活性：基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩模光刻，能夠快速適應(yīng)不同的實驗需求和設(shè)計變更。

高精度：提供精確的光刻效果，滿足科研中對細(xì)節(jié)和精度的嚴(yán)格要求。

無掩模：省去了掩模版的制作和更換，大大縮短了實驗周期，降低了成本。

ACA系列無掩模光刻機(jī)的亮點包括：

特征尺寸0.8μm，適用于精細(xì)圖案的制造。

6英寸光刻面積，滿足大多數(shù)科研實驗的需求。

高精度步進(jìn)光刻，確保了圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性。

ACA Pro無掩模光刻機(jī)的亮點：

特征尺寸0.4μm，提供了更高的光刻精度。

6英寸光刻面積，適應(yīng)多種尺寸的晶圓。

高精度步進(jìn)光刻，適合復(fù)雜的圖案制造。

ACA Master無掩模光刻機(jī)的亮點：

特征尺寸0.4μm，保持了光刻精度。

6英寸光刻面積，兼容多種標(biāo)準(zhǔn)尺寸的晶圓。

掃描光刻/步進(jìn)光刻可切換，提供了更多的光刻方式選擇，增強(qiáng)了設(shè)備的適用性。

ACA系列高靈活性 科研版無掩模光刻機(jī)為科研工作提供了強(qiáng)大的支持，其長壽命、高功率的紫外光源保證了設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性，而原位光繪和交互式套刻指引功能使得光刻和套刻過程更加容易和精準(zhǔn)。這些特點使得ACA系列成為科學(xué)研究領(lǐng)域的理想選擇，助力科研人員在進(jìn)行光刻相關(guān)實驗時取得更加精確和可靠的結(jié)果。